上海微电子光刻机在全球属于什么水平？
答：
不捧上天、不贬入地，实事求是的说，放眼全球，上海微电光刻机制造水平在全球属于独三档的存在。
光刻机是制造芯片的核心装备，制造难度极大，尤其是步进投影和扫描投影这两类高端投影式光刻机，更是被誉为世界上最精密的仪器，售价高至1.2亿美金，比某些先进战机的售价还要高。
目前高端光刻机制造领域，全球只有少数几家公司能掌握，那就是荷兰的ASML，日本的尼康和佳能。
不过中低端领域，位于上海的上海微电（SMEE）也能触及，而且全球光刻机市场以中低端产品为主，市场前景还是非常广阔的。
提到上海微电，前身可以追溯到1928年的国立中央研究院工程研究所，是我国最早的工学研究机构之一，随着改制和发展，当2002年光刻机被列入国家863重大科技攻关计划时，上海微电子装备有限公司应运而生并承担了主要的攻坚克难任务。
不过，纵然是国内光刻机行业的龙头企业，上海微电的起步时间相较于国外，依然晚得多，比如2002年成立时，荷兰ASML已经成立18年了，距离ASML1997年开启EUV光刻机研发也已经过去了5年。
且不说光刻机水平上的差距，但从公司成立的时间和布局光刻机的时间来看，上海微电就已经落于人后了。
不过，成立之初的上海微电并非一片空白，事实上其亲身中科院光电技术研究所早在1980年就研制出来首台国产光刻机，第45所更是在1985年研制出了我国首台g线1.5um分步投影光刻机，这些都能为上海微电提供经验和研制基础。
早期国产光刻机的研发
到了2007年，上海微电600系列光刻机问世，型号主要包括SSA600/20、SSC600/10和SSB600/10三款，可满足90nm-280nm关键层和非关键层的光刻工艺。
600系列的推出距今也有15年的时间了，那么他在当时处于什么水平呢？这大概相当于2004年英特尔最新款奔腾4处理器，在当时来说，相对较为先进，但两年后的2006年，ASML就首度推出了EUV光刻机的原型、2010年样机NXE3100面世、2015年实现少量量产，将光刻机的先进程度推向了一个新的高度。
反观上海微电，自15年前推出最高工艺节点90nm的600系列之后，受限于技术、人才，以及禁售、禁技术输出扶持等各项复杂因素，继续突破遇到了极大的瓶颈。
直到今年七八月份，传出上海微电交付28nm光刻机，通过多次曝光技术可用于14nm芯片的制造并能保证良品率之后，才算是再次迎来了新突破。
上海微电600系列及参数
然而，毫不客气的说，我们在进步的同时，国外厂商也没闲着，依附高端光刻机技术不断向前突破，三星13亿美元的7nm工厂已完工，台积电5nm芯片号称2024年实现量产，3nm芯片也在布局和量产。
从国产芯片90nm到28nm、14nm，能侧面印证我们在光刻机制造领域的进步，而三星和台积电等芯片厂商却朝着7nm、5nm、3nm在进发，这是否已经说明我们在光刻机制造领域已经远远落于人后了呢？
其实完全不用这么悲观，如果与ASML、尼康和佳能等顶级光刻机厂商对比，确实存在“代差”，但如果放眼全球，以上海微电为代表的中企，尚处在第三梯队。
若从制造技术上对全球各厂商排个名，大致是这样的顺序：
第一梯队，荷兰ASML遥遥领先从2021年全球478台前道光刻机的出货数据来看，ASML的309台，占比是65%，剩余的35%几乎被日本的尼康和佳能全部占据着。
虽说三家头部企业已经实现了光刻机出口市场上的绝对垄断，但如果具体到EUV高端光刻机，ASML的市场份额近乎100%，这是尼康和佳能也无法企及的。即便是DUV光刻机，精度更高的ArFi、ArF Dry也是ASML说了算，市场份额占比分别是96%和88%。
由此不难看出，在高端光刻机领域，ASML出于独一档的存在，全球其他厂商尚没有能力撼动其地位。
而且越是高端的光刻机，其利润越大，得益于此，去年第四季度，ASML的整体毛利率高达54.2%，净利润实现17.74亿欧元。这还是在受到疫情影响下，芯片全球需求较为萎靡的背景下取得的。
说ASML在高端光刻机领域“独步全球”，这一点都不过分，按照他的制造技术和产能，倘若想进一步拿下尼康和佳能的市场份额，完全有能力实现。只不过人家在考虑出货量的同时，还在考虑单台售价和毛利率，压根就不太重视低端市场，与其说是“三足鼎立”，不如说是“傲视群雄”。
第二梯队，尼康和佳能在第二梯队上，尼康和佳能的地位，其他厂商又无法撼动，两者牢牢占据着全球剩余近35%的市场份额。
不过，纵然市场份额较大，但出口的光刻机基本上以低端光刻机为主，比如2020年和2021年，ASML分别出口了31台和42台EUV光刻机，而尼康和佳能的出口量则为0。
再比如按照2021年的数据，DUV中精度更高的ArFi光刻机，尼康出口了4台、佳能是0台，而ASML则是81台；ArF Dry更甚，尼康出口了3台、佳能是0台，ASML是22台。
只有在低端市场，尼康和佳能才有一定的市场份额，比如KrF光刻机，佳能出口了38台；i-line光刻机，佳能出口了102条，多于ASML的33台。
无疑，尼康和佳能两家日企在光刻机市场的主要优势集中在低端领域，尚能与ASML掰掰手腕。
但换一个角度想，即便是低端领域，除了这三家头部厂商之外，其他厂商也很难染指，即便是中企厂商中的代表上海微电，份额也近乎为0。
从这个角度也能看出全球光刻机制造水平的巨大差距，ASML不太想要的低端市场，尼康和佳能占据着，而其他厂商甚至连“门槛”也摸不到。
第三梯队，上海微电具体说一下上海微电吧，其实在去年全球总共478台前道光刻机的出货量中，光刻机类别主要有5种，分别是EUV、ArFi、ArF Dry、KrF和i-line，能到达的最短制程分别对应7nm以下、45-7nm、65nm、180nm和0.35um，其中1um=1000nm，也就是最低端的i-line对应的是350nm。
上文说到，上海微电的600系列，最高工艺能达到180nm，也就是说理论上，在5中主要类别的光刻机市场上，按道理来讲，上海微电应该在KrF和i-line上有一席之地。
然而现实却很残酷，实际上上文也提到了，ASML、尼康、佳能三者的总份额近乎100%，几乎没有上海微电600系列的份额。
所以上海微电究竟在国际上处于一个什么样的水平，大家应该有一个较为直接和清醒的认识。
但这并不意味着上海微电就完全落于人后了，事实上上海微电占据着国内80%的市场份额，一方面说明上海微电在国内处于绝对的领先地位，另一方面也说明在低端光刻机领域，我们还是能实现一定比例的自给自足的，毕竟其他很多国家，但凡是涉及到光刻机，几乎100%的依赖进口，上海微电算是独三档的存在。
再就是前段时间28nm光刻机交付，随着技术的成熟和实践阶段的检验，未来可能会在国际45-7nm这一层面上形成竞争，只不过是时间长短的问题。有朝一日，我们的国产光刻机，也能走出国门。
上海微电SMEE
综上来说，上海微电纵然在国内光刻机市场占据着80%的份额，但倘若放眼全球，其竞争力水平尚不能与ASML甚至佳能、尼康相提并论，600这一成熟系列距研发成果至今，已经有15年的时间了，在国际上的竞争力稍显不足。
客观求是的讲，我们在光刻机领域的进步是明显的、看得见的，但也绝不能过分的“捧杀”，这对技术进一步改良和进步一点好处也没有。相对落后并不可怕，怕的是取得一点成绩就沾沾自喜，我们还是应该有一个较为准确的定位和清醒认识的，既不捧上天，也不贬入地。
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